鎢絲在KOH中的STM尖端電化學蝕刻配方

在我們開始之前，我們顯然需要提醒使用者一些顯而易見的事情：在你使用完裝置後清理乾淨 - 使用後，清空用於KOH的容器，並用去離子水 (DI) 徹底沖洗。KOH具有腐蝕性，因此使用後擦拭掉桌子/裝置上的液滴。

使用一根新切割的線 - 不要用手指接觸線卷，因為油脂會汙染它，影響以後的使用者 (有些人會在超高真空裝置中使用鎢絲，如果沾染了油脂指紋可能會造成很大損失，所以要小心)。
準備 100 毫升去離子水 (DI) 中溶解 16.8 克 KOH 顆粒的溶液，或者使用塑膠瓶中已配製好的溶液 (如果有)。
用溶液將特氟龍杯填滿。
將針夾到支架上，將針設定為正極，將溶液設定為負極。
將針浸入溶液中約 0.5 毫米 - 浸入越深，需要的時間越長...
用大約 10V 和 2mA 的停止電流進行蝕刻。如果你認為沒有任何反應發生，可以增加電壓來突破潛在的氧化層。
在顯微鏡下檢查尖端，如果需要再次蝕刻 - 有時只是快速浸泡就可以起到奇效。

大約 50 毫升 KOH 溶液的容器可以有效地蝕刻大約 3 個尖端，然後蝕刻速度會開始變慢。當蝕刻速度下降時，攪拌液體，使新鮮的蝕刻劑進入反應區域。

尖端會在約 10 小時內被氧化物覆蓋。可以通過沖洗少量 KOH 溶液來清除氧化物，或者在氧化物較厚的情況下，可以透過再次進行快速電化學蝕刻來清除氧化物。蝕刻後，尖端上會殘留一層薄薄的液體 - 用去離子水清洗並在熱空氣中乾燥通常會有所幫助。