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微技術

25% developed
來自華夏公益教科書

微細加工與微技術開源手冊 已開發 25%

關於微技術的華夏公益教科書已經開始,旨在將有關各種應用、製造方法和系統的的資訊集中在一個地方,為學生、研究人員和所有人提供一個開源手冊和概覽指南。

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目錄 詳細描述 (已開發 100%-圖示是各個網頁;數字是子部分)

第一部分:引言

微技術是關於什麼的——你可以用它來做什麼,它將走向何方?


已開發 50% 引言

  1. 對微技術的視角
  2. 微技術的應用

已開發 50% 概覽

  1. 網際網路資源
  2. 期刊
  3. 微技術產品和公司
  4. 微技術時間表

已開發 50% 關於本書

  1. 願景
  2. 如何貢獻
  3. 歷史
  4. 作者
  5. 支援和致謝

已開發 25% 拓展

  1. 拓展專案
  2. 演示實驗
  3. 微技術教學

第二部分:材料

矽是傳統上用於製造計算機晶片和其他電子電路的微細加工材料。越來越多的其他材料型別被用於晶片實驗室系統和廉價的一次性電路。


已開發 25% 材料

  1. 概覽
  2. 應用和用途
  3. 產品生命週期
  4. 環境因素
  5. 晶圓和襯底概覽

已開發 25% 半導體

  1. 多晶矽
  2. IV 族半導體
  3. III-V 族半導體
  4. II-VI 族半導體

已開發 25% 絕緣體

  1. 二氧化矽
  2. 氮化矽
  3. 聚甲基丙烯酸甲酯 (PMMA)
  4. 聚二甲基矽氧烷 (PDMS)
  5. SU8

已開發 25% 導體

  1. 貴金屬
  2. 合金
  3. 矽化物

第三部分:製造工藝

微細加工主要關注透過批次處理矽(以及越來越多的不同材料)晶圓在潔淨室設施中將它們製成單個晶片來製造微晶片。使用潔淨室是因為必須避免灰塵。微晶片的部件遠小於平均灰塵顆粒,一個單獨的顆粒可能會對敏感的工藝造成破壞(不僅會在晶圓的某個位置產生缺陷,還會汙染工藝裝置)。這些工藝大致可分為新增和刻蝕工藝,它們要麼新增要麼去除材料,以及光刻工藝,它在表面上建立圖案。


已開發 50% 新增工藝

  1. 概覽
  2. 氧化
  3. 化學氣相沉積 (CVD)
  4. 物理氣相沉積 (PVD)
  5. 外延生長
  6. 電化學方法
  7. 旋轉塗覆
  8. 表面功能化

已開發 50% 刻蝕工藝

  1. 刻蝕劑
  2. 溼法刻蝕概覽表格
  3. 溼法刻蝕相容性圖表
  4. 毛細現象
  5. 矽 KOH 刻蝕
  6. 二氧化矽刻蝕 (HF、BHF、BOE)
  7. 氮化矽刻蝕
  8. 金屬刻蝕
  9. 清洗方法
  10. 幹法刻蝕概覽
  11. 反應離子刻蝕 (RIE、DRIE、ASE)
  12. 幹法清洗方法 (等離子體、臭氧)
  13. 雷射燒蝕
  14. 氣體刻蝕

已開發 25% 光刻

  1. 紫外光刻 (UVL)
  2. 電子束光刻 (EBL)
  3. 抗蝕劑塗層

已開發 25% 其他方法

  1. 快速熱退火 (RTA)
  2. 晶圓鍵合
  3. 電氣連線
  4. 摻雜
  5. 封裝
  6. 橢圓偏振儀
  7. 四探針測量
  8. 原子力顯微鏡
  9. 掃描電子顯微鏡
  10. 光學顯微鏡
  11. 真空裝置

第四部分:應用

閱讀本文,你已經習慣了你的計算機,它基於微電子技術,你訪問網際網路,沒有光電子技術它將無法正常工作。你車裡的安全氣囊感測器是一個 MEMS 裝置,很快你還會在日常生活中發現晶片實驗室裝置。


已開發 25% 微電子學

  1. 歐姆電阻
  2. 二極體
  3. 電晶體
  4. CMOS

已開發 25% 光電子學

  1. 波導
  2. 光子帶隙結構
  3. 電光器件

已開發 50% 微機電系統 (MEMS)

  1. 應用
  2. 諧振器
  3. 應變計
  4. 壓力感測器
  5. AFM 懸臂樑
  6. 加速度計
  7. 光束控制
  8. 射頻 MEMS

已開發 25% 微流體和感測器

  1. 應用
  2. 微流體泵
  3. 微流體閥
  4. 電子鼻
  5. PCR 系統
  6. 微流體細胞操控
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